İçeriğe geç
NEBİLİM AĞI ÇEVRİMİÇİ23.10.2026 · BİLİM, EVREN & TEKNOLOJİ
NeBilim.net

Her cevap,
yeni bir soru açar.

OBSERVATION / 151

Safirde Yetişen Yarı İletken Film, Bant Açıklığı Rekoru Kırdı

Seyrek bant aralıklı iletkenler, çok daha yüksek gerilimlere dayanabilen daha küçük ve verimli elektronik cihazların yolunu açabilir; ancak bu aralık ne...

Seyrek bant aralıklı iletkenler, çok daha yüksek gerilimlere dayanabilen daha küçük ve verimli elektronik cihazların yolunu açabilir; ancak bu aralık ne kadar genişlerse, bir malzemenin elektrik iletkenliğini ne kadar iyi kontrol edebilmesi de o kadar zorlaşır. Şimdi, Cornell Üniversitesi’nden Darrell Schlom’un liderliğindeki bir ekip, alüminyum galyum oksitin ince filmlerine silikon ekleyerek, bu kontrolü daha önce hiçbir iletkenin ulaşamadığı kadar geniş bant aralıklarında koruyabildiklerini gösterdi. Araştırmaları Nature dergisinde yayımlandı.

Geniş bant aralıklarının getirdiği avantajlar

İletkende elektronlar iki ayrı enerji aralığında bulunur. Alt “valans bandında” atomlarına sıkı sıkıya bağlıdırlar ve akım taşıyamazlar. Yeterince enerji kazansalar ise, serbestçe hareket ettikleri üst “iletim bandına” sıçrayabilirler.

Bir iletkenin bant aralığı, bir elektronun bu sıçramayı yapabilmesi için gereken enerjiyi tanımlar ve iletkenlerin yalıtkan ve iletken durumlar arasında açılıp kapanmasını sağlar. Geniş bant aralıkları malzemelerin daha güçlü elektrik alanlarına dayanmasını sağladığından, galyum nitrid ve silisyum karbid gibi geniş bant aralıklı iletkenler zaten hızlı telefon şarj aletlerinden elektrikli araçlara kadar her alanda kullanılıyor.

NeBilim sitesini Google’da tercih edilen kaynak olarak seç

Alüminyum sorunu

Alüminyum galyum oksit özellikle umut verici bir malzemedir. Alüminyum ve galyum oranını ayarlayarak bant aralığı 5,4 ile 8,6 electronvolt (eV) arasında, bilinen herhangi bir iletkenin sahip olduğu en geniş aralıkta ayarlanabilir. Ancak alüminyum içeriği arttıkça, malzemeye serbest elektron sağlamanın çok daha zorlaşması, alüminyumca zengin filmlerin şimdiye kadar galyumca zengin olanlardan birkaç büyüklük derecesi daha kötü iletmesi ve böylece elektronik için pratik olmamalarıyla sonuçlanır.

Schlom’un ekibi, bu zorluğu, safir taban kullanan özenli bir üretim yaklaşımıyla aştı. Oksit filmleri büyütmek için, malzemeyi atom katmanı atom katmanı inşa eden moleküler demar epitaksi adı verilen bir teknik kullandılar.

Her film safirin üzerine büyüdükçe, fazla elektronları malzemeye bağışlayan atomlara sahip silikonu küçük miktarlarda eklediler. Sonra filmlerin bant aralıklarını ve elektrik özelliklerini ölçtüler ve filmlerin iki temel elektronik bileşen olan bir diyot ve bir transistör içinde nasıl davrandığını test ettiler.

Rekor kıran iletken

Silikon eklenen filmler, 7 eV’den fazla bant aralıklarında elektrik ilettiler ve önceki rekoru kübik boron nitride’ın elindeyken geride bıraktılar. 6 eV üzerinde, ekibin “devasa bant aralığı” dediği bir aralıkta, filmler oda sıcaklığında, daha önce rapor edilen herhangi bir değerden 100 milyon kereden iyi ilettiler. Hem diyot hem de transistör, bu devasa-bant-aralıklı malzemelerle başarıyla çalıştı.

Bu yaklaşım, nesilden nesile iletkenlerin üretiminin çok daha pratik olmasını da sağlayabilir. Elmas ve kübik boron nitride gibi diğer ultra-geniş-bant-aralıklı malzemelerle karşılaştırıldığında, safir bol, ucuz ve zaten büyük ölçekte, yüksek kalitede üretiliyor.

Başarılarına dayanarak, Schlom’un ekibi şimdi filmlerinin, elektrik üretirken ve yönetirken çok daha az enerjiyi ısı olarak israf eden yeni bir güç elektroniği neslinin yolunu açabileceğini umuyor.

Sizin için yazarımız Sam Jarman yazdı, Gaby Clark düzenledi ve Robert Egan doğrulayıp inceledi—bu makale özenli insan emeğinin sonucudur. Bağımsız bilim gazeteciliğini canlı tutmamız için sizin gibi okuyucularımıza dayanıyoruz.
Bu raporlamanın sizin için önemliyse, lütfen bir bağış (özellikle aylık) düşünün. Teşekkürümüz olarak reklamsız bir hesap edineceksiniz.

Jacob Steele et al., A 7-eV bandgap semiconductor based on silicon-doped α-(AlxGa1−x)2O3, Nature (2026). DOI: 10.1038/s41586-026-11085-3

Dergi bilgileri:
Nature

Elektrik özellikleri
Elektronik yapı
İletkenler

Bu hikayenin ardındaki kim?

Science X katkı sağlayan yazar; astrofizik, yeni malzemeler, tıbbi görüntüleme ve biyomimikri teknolojilerini kapsar.
Tam profil →

İngilizce MA derecesi, 2021’den beri editör; yükseköğretim ve sağlık içeriğinde deneyime sahip. Güvenilir bilim haberlerine bağlı.

Tam profil →

Matematiksel biyoloji alanında lisans, yaratıcı yazım alanında yüksek lisans. Dünyayı gezen, bilim ve dil hakkında özgün bakış açısına sahip.

Tam profil →

© 2026 Science X Network

Alıntı

:
Sapphire’ta yetiştirilen yarı iletken film, bant açısı rekoru kırdı (2026, 22 Ekim)
23 Ekim 2026’da alındı
https://phys.org/news/2026-10-sapphire-grown-semiconductor-bandgap.html adresinden

Bu belge telif hakkına tabidir. Özel çalışma veya araştırma amacıyla yapılan adil kullanış haricinde, içerigin yazılı izni olmadan hiçbir kısmı çoğaltılamaz. İçerik yalnızca bilgi amaçlı sunulmaktadır.

İlginizi Çekebilir: Selüloz Gıda Ambalajlarında Potansiyel Olarak Zararlı Metaller Ölçen Yeni Test Geliştirildi →
Kaynak: PHYS ↗Kaynak yazarı: Sam Jarman
💬 Topluluk Masası & Tartışma

Bu gelişme hakkında düşüncelerinizi, donanım deneyimlerinizi veya sorularınızı Topluluk Forumumuzda paylaşın.

Foruma Katıl & Yanıtla ➔
Forumda sor / tartış
AÇIK LABORATUVAR / TARTIŞMA

İlk yorumu siz yazın

Fikrinizi bir kaynak, soru veya yapıcı karşı görüşle geliştirin.

Tartışmaya katıl

E-posta adresiniz yayımlanmaz. Zorunlu alanlar * ile işaretlidir.

SEARCH / 001

En az 3 karakter yazın.

ATLAS / NAVIGATION

Bilgi alanları